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日本的比较好。
日本阿尔法角膜塑形镜一直致力于角膜接触镜的研究开发,并于2002年开始着手角膜塑形镜的开发,经临床试验确定了其效果与安全性后,在2009年作为新型医疗器械在日本国内首家取得了医疗器械许可证,并开始了销售。销售开始后,不仅在品质上精益求精,在新商品的研发也积极进取,在原有的角膜塑形镜设计的基础上成功地研发了散光片设计并推向市场。
小组赛
G组:瑞士1-0喀麦隆;巴西2-0塞尔维亚
G组:瑞士0-1巴西;塞尔维亚3-3喀麦隆;
G组:瑞士3-2塞尔维亚;巴西0-1喀麦隆;
八分之一决赛具体比分:
荷兰3-1美国;阿根廷2-1澳大利亚;法国3-1波兰;英格兰3-0塞内加尔;日本2-4克罗地亚;巴西4-1韩国;摩洛哥3-0西班牙;葡萄牙6-1瑞士。
荷兰的深蓝紫光光科技是垄断市场的唯一产品。美国更是把军事机密级的激光发射机转让给他来完成产品。美国资本也是占了很大比分的。日本也具备制造初级产品但是日本的产品没有很大销量更没有美国的技术支持跟荷兰的产品比起来差距还是在20年的差距的。短时间很难达到荷兰光刻机的水平。中国和日本其实可以联合生产中国有市场中国和日本积极开发中高光刻机
根据最近舆论的发酵,我们可以知道荷兰的ASML占据了几乎所有的高端光刻机的份额,日本的佳能和尼康占据了中端的光刻机市场,中国上海微电子占据低端光刻机市场。但是光刻机它是一种集光学、流体力学、高分子物理与化学、机械自动化、软件等多个学科融合的顶尖技术产物。ASML只是其中的集成者,一台光刻机里包括掩膜版,测量台,曝光台,物镜等等,这每一个零部件都要最优异的才能产出最好的光刻机,有了这些基础的发展,ASML的研发才能有新的进展。正式因为ASML在当年赌对了浸润式光刻机是未来发展之路,这也将之前的老大佳能给赶下榜首,从此占据了高端光刻机的舞台。根据中国02专项最新进展,预计今年年底我们国家28nm的光刻机就会亮相,虽然距离ASML的EUV光刻机还有所差距,但是路只有自己走,指望谁也成功不了。
光刻机的内部分解图
我国的芯片制造到底是受哪些技术制约,光刻机哪些技术受制约?集成电路这一块我们目前水平和西方国家还是有不小差距,受制于地方主要这两方面影响大一点,其它方面也是有。第一就是这个芯片的架构都是由ARM公司提供授权,设计芯片需要它这个架构。第二就是这个设计芯片所需要的辅助EDA软件,这些基本也是西方国家占据优势。我们国内也是有一些EDA软件,但是因为国外的一些EDA盗版软件在国内横行,这些国内厂商也是难以翻身。从实际使用来看,国内软件与国外还是有部分差距。
其实这种放任盗版策略就像微软公司放任Windows系统盗版横行一个样,它的目的就是限制你的国产系统和软件的发展。国内也是可以做光刻机,例如上海微电子设备有限公司也是可以生产光刻机,但是与光刻机巨头荷兰ASML技术不是一个级别。
目前来说国产光刻机还是以90nm为主,中微半导体做的蚀刻机达到了比较高的水平5nm,而在早两年前ASML的光刻机就可以做7nm手机处理器。光刻机所需要关键部件就是镜头,这个镜头是由德国蔡司公司提供。蔡司的镜头不对我们出售,它的镜头技术得到了几十年的技术沉淀,同时它也是ASML大股东,给荷兰ASML提供顶尖的镜头。
而我们得不到这些镜头,国内的镜头生产工艺目前也是达不到蔡司的水平,想要做像ASML一样的光刻机自然是比较困难。同时还有一个西方制定的《瓦森纳协定》简单来说就是限制我们芯片的发展。不单单镜头一个问题,光源、轴承、以及程序控制、高精度的对准系统等等都是我们国内目前工艺达不到的。ASML能做出顶尖的光刻机也是靠着全球很多家顶尖公司提供的技术进行整合,因此想要做出顶尖光刻机是非常的难,首先你的一些部件生产工艺就得达到顶尖的水平。
现在又有报道说美方开始全球范围内限制华为芯片生产,西方国家一直是想尽一切方法打压我们国内芯片生产。从中芯国际前几年订购的EUV光刻机一直被推迟发货,现在也是没什么信息。再到现在的打压华为公司,无不透露着西方国家惧怕我们国内科技企业强大。而在芯片设计生产以及光刻机方面,我们仍需要努力,加大科研投入,不断进行技术积累,才能早日有所突破。
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